KAIJO楷捷超声波清洗机凭核心技术突围 赋能多行业精密制造升级

    在半导体制造核心环节，楷捷超声波清洗机展现出优良性能。针对晶圆切割后残留的切割液、硅屑等污染物，其微米级清洁能力可有效避免后续光刻工艺图形缺陷，尤其在碳化硅等第三代半导体材料加工中，变频超声波技术可自动调节28kHz-120kHz频段，实现亚微米级污染物剥离的同时保障基底完整性。某存储芯片制造商采用其定制方案后，因清洗问题导致的焊线虚接故障率下降83%，年节省返修成本达400万元。

    技术创新是楷捷核心竞争力。全新推出的Phoenix系列振荡器采用压电换能技术，能量转换效率高达95%以上，处理效率提升逾50%；QUAVA MULTI系列则实现一键切换三个频率，配备PLL频率自动跟踪电路，确保清洁稳定性。在光刻机镜头维护等高精度场景，其聚焦式超声波头配合特制清洗液，可在不拆卸镜组的情况下清除纳米级污染物，误清洗损伤率控制在0.3%以下。

    目前，楷捷超声波清洗机已广泛应用于半导体、电子电器、生物医药、新能源等多个领域，西南地区等市场销量持续攀升。其兼具环保性与高效性的解决方案，不仅满足了各行业精密清洗需求，更助力企业实现降本增效，为智能制造升级注入新动能。我司作为KAIJO楷捷超声波清洗机经销商，优势供应各类产品，欢迎咨询。