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KAIJO楷捷超声波清洗机 中频超声波 PHENIX LEGEND II 系列
KAIJO楷捷超声波清洗机
一、核心规格参数
功率与频率:
频率固定在 100kHz - 160kHz 的中频区间,能精准应对细微污渍;支持 1W 梯度的功率设定,可根据工件污渍情况精准匹配清洗功率,保障清洗效果的同时避免工件损伤。另外参考同系列相关机型推测,该系列大概率有 600W 和 1200W 两种功率版本,适配不同批量清洗需求。
适配与兼容性:
具备良好的兼容性,可直接使用 PHENIX LEGEND 系列的振子,无需额外更换适配配件,降低了设备维护和配件更换的成本,也方便原有楷捷同系列设备用户升级迭代。
基础物理参数:
其供电适配单相 AC200V±5% 的 50/60Hz 交流电,适配多数工业电网环境;外形尺寸或接近 350mm(宽)×450mm(深)×165mm(高),重量约 17kg,便于在生产线中灵活布局安装。
二、核心功能特点
1.四种特殊振荡模式,适配多样精密清洗:
该系列支持 4 种特殊振荡模式选择,相比普通单模式清洗设备,能针对不同精密工件的污渍类型(如超微粉尘、细微油污等)和材质特性切换模式,实现比传统设备更高精度的清洗,还能去除兆声波清洗难以处理的较大颗粒污渍。
2.功率稳定可控,实现低损伤清洗:
设备能实现高稳定性的功率输出,且支持 1W 刻度的精细输出设定,可轻松完成低损伤清洗对应的精密输出控制。这一特性对半导体元件、精密光学零件等易受损工件尤为重要,既能清洁污渍,又能避免清洗过程中对工件表面造成划痕或结构损坏。
3.适配性强,运维便捷:
除了兼容同系列振子外,其设计大概率延续了楷捷设备一贯的便捷运维优势,更换配件后无需复杂校准即可投入使用。同时可能配备 LED 电平指示等直观的输出显示功能,方便工作人员实时监控设备运行状态,及时发现并处理异常。
三、适用场景
该系列凭借中频清洗的特性和低损伤优势,广泛适配对清洁精度要求高的行业。在电子制造领域,可用于硬盘零部件、LED/FPD 相关精密配件的清洗,去除生产过程中残留的细微粉尘和油污;在半导体领域,能处理晶圆加工后残留的硅屑等超微污染物,且不会损伤晶圆基底;此外,还可应用于精密光学仪器(如小型透镜、棱镜配件)、精密机械零件(如微型轴承、手表细小零件)等的清洗,满足这些高精密部件的清洁标准。
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