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KAIJO楷捷超声波清洗机 QUAVA SPOT MEGA TUBE系列(兆声喷管)
KAIJO楷捷超声波清洗机
1.适配发生器:
主力适配 30110 型号发生器,输出功率可在 1 - 100W 范围内调节,支持 0.1W 精度的细微调整,功率波动仅 ±1%。供电电压覆盖 AC100 - 240V,适配 50/60Hz 频率,额定电流 5A,外形尺寸为 218mm×258mm×138mm,重量 5kg,便于集成安装。
2.喷管核心参数:
适配 430kHz 和 950kHz 两种高频,可高效去除亚微米级颗粒污渍。喷管材质选用高纯度石英或不锈钢(SUS),具备良好的耐腐蚀性和能量传导性,适配工业清洗中的各类化学清洗液环境。
3.照射方式:
提供三种声波照射模式,分别是jian端照射法、喷淋照射法和侧面照射法,可根据清洗部位的空间限制灵活选择,无需预留额外的振子安装空间,能轻松将兆声能量传导到精密部件的狭小角落。
二、核心功能与性能优势
1.能量可控,清洁精准:
搭配发生器使用时,既能将兆声能量聚焦于特定点位进行定点精细清洗,也能对大型基板实现均匀清洗,解决了传统清洗设备难以兼顾定点清洁和大面积清洁的问题。同时发生器支持自动频率跟踪,配合 4 位数码显示的功率计,可实时监控输出功率,保障清洁力度稳定可控。
2.安装便捷,运维高效:
喷管与同系列发生器适配性强,更换喷管或发生器时无需现场校准,可直接投入生产线使用,大幅减少停机调试时间。且发生器具备可编程软启动和软停止功能,能避免功率冲击对喷管和工件造成损伤,延长设备使用寿命。
3.灵活适配,适配性强:
管状喷嘴设计使其无需额外预留振子间隙,可深入狭小空间传导兆声能量,轻松清洁精密部件的隐蔽角落。同时适配不同尺寸的单片工件,从半导体晶圆到大型 FPD 基板,均可通过调整照射方式满足清洗需求。
4.智能联动,操作便捷:
依托发生器的内部 CPU 可实现与上位机的通信,支持通过远程终端、RS - 485 或 DeviceNet 进行远程控制,还能反馈设备运行状态,方便工作人员实时监控清洗进程,适配自动化生产线的管控需求。
二、适用场景
主打半导体晶圆、LCD 面板、硬盘介质等精密部件的单片清洗,也可用于太阳能电池基板的超精细清洁,尤其适合去除抗蚀剂剥离、蚀刻后残留的细微污渍,且高频清洗模式不会对工件表面的微图案造成损伤。
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